Difluoruro de xenón de alta pureza XeF2 CAS 13709-36-9, para el grabado de semiconductores, la fabricación de microelectrónica y aplicaciones fluoroquímicas de gama alta

1. Descripción general del producto

Difluoruro de xenón (XeF)₂) es un importante fluoruro inorgánico de alta pureza y material electrónico especial, con fuertes propiedades oxidantes y excelente capacidad de fluoración.Sirve como material de grabado crítico en la fabricación de semiconductores.

XeF de alta pureza₂ofrece estabilidad a temperatura ambiente en forma sólida, volatilidad moderada y características de fluoración selectiva, por lo que es adecuado para procesos de grabado de precisión en materiales de silicio,dióxido de silicio, metales y capas dieléctricas.

Debido a su capacidad para experimentar reacciones de fluoración en fase gaseosa sin condiciones plasmáticas, XeF puede ser utilizado para la obtención de fluorescencias en el plasma.₂posee ventajas únicas en la fabricación de MEMS, procesamiento microelectrónico y aplicaciones de investigación.

El mercado ruso está dirigido principalmente a fabricantes de semiconductores, empresas de materiales electrónicos, empresas fabricantes de MEMS, instituciones de investigación y comerciantes de productos químicos especiales de alta pureza.

2Especificaciones

Nombre del producto: Difluoruro de xenón

Nombre en inglés: Difluoruro de xenón

Abreviatura: XeF₂

Fórmula química: XeF₂

No CAS: 13709-36-9

Categoría del producto: Fluoruro inorgánico de alta pureza / Material electrónico

Apariencia: Polvo cristalino blanco

Pureza: suministrada de acuerdo con los requisitos del cliente de grado electrónico

Embalaje: Botellas de alta pureza, embalajes especiales

Almacenamiento: En un ambiente seco y fresco, sin humedad

3Áreas de aplicación principales

①Grabación en semiconductores

XeF₂pueden utilizarse para el grabado selectivo de silicio, dióxido de silicio y materiales metálicos, adecuados para procesos avanzados de fabricación de microelectrónica.

②Fabricación de MEMS

Aprovechando las características de grabado isotrópico de XeF₂, puede utilizarse para procesos de liberación de silicio y fabricación de estructuras de precisión en sistemas microelectromecánicos.

③Investigación y desarrollo de la microelectrónica

Se utiliza en procesos avanzados de chips, investigación de materiales electrónicos y desarrollo de procesos de fluoración especializados.

④Reacciones de fluoración especiales

Como un poderoso agente fluorante, utilizado en la investigación y la síntesis química de alta gama.

4Características y ventajas del producto

①Alto rendimiento de grabado selectivo

XeF₂permite la eliminación precisa del material, reduciendo los daños asociados con los métodos convencionales de procesamiento húmedo.

②Capacidad de grabado libre de plasma

XeF en fase gaseosa₂puede participar directamente en reacciones, por lo que es adecuado para procesos de microfabricación especializados.

③Valor del material electrónico de alta pureza

XeF de alta pureza₂cumple los estrictos requisitos de control de impurezas del sector de los semiconductores y de la investigación.

5. Distinciones con respecto a productos afines

①XeF₂contra el C₄F: el precio₆/C₄F: el precio₈Gasos electrónicos especiales

XeF₂es un material sólido de grabado fluorado utilizado principalmente para grabado en seco selectivo;₄F: el precio₆y C₄F: el precio₈son gases de plasma que graban.

②XeF₂El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero.₂)

F: el precio₂presenta una mayor capacidad de fluoración pero difiere en el ámbito de aplicación industrial; XeF₂ofrece características de almacenamiento y liberación en estado sólido más fáciles de controlar.

③XeF₂Versus los fluoruros inorgánicos convencionales

XeF₂posee una estructura molecular única y una actividad de fluoración, utilizada principalmente en aplicaciones electrónicas de gama alta y de investigación.

6Consideraciones relativas a las compras en el mercado ruso

Los clientes suelen centrarse en lo siguiente:

-Pureza del producto;

-Impuridades metálicas;

-Contenido de humedad

-La limpieza de los envases;

-Consistencia de lote a lote;

-los informes de ensayo de grado electrónico;

-Documentación técnica, incluida la COA, TDS y SDS.

7Ventajas del producto

-Fluoruro inorgánico de grado electrónico de gama alta;

-Material crítico de grabado para aplicaciones de semiconductores y MEMS;

-Excelente rendimiento de fluoración selectiva;

-Apto para tecnologías avanzadas de microfabricación;

-Producto de materiales fluorados especiales de alto valor añadido.

8Envasado y almacenamiento

El difluoruro de xenón presenta cierta reactividad y debe embalarse en recipientes limpios y sellados.

Durante el almacenamiento, mantenerse seco y evitar el contacto con humedad, materiales orgánicos y sustancias incompatibles.

9. Preguntas frecuentes (FAQ)

P: ¿Cuáles son las industrias que son los principales usuarios del difluoruro de xenón?

R: Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores, MEMS, procesamiento microelectrónico, investigación y reacciones de fluoración especializadas.

P: ¿Por qué XeF₂¿Es adecuado para el procesamiento MEMS?

A: XeF₂presenta características de grabado isotrópico de silicio, lo que permite la liberación de la estructura de precisión y la microfabricación.

P: ¿Cuál es la diferencia entre XeF₂y C₄F: el precio₆?

A: XeF₂se utiliza principalmente para el grabado selectivo en fase gaseosa, mientras que C₄F: el precio₆se utiliza principalmente para el grabado por plasma.

P: ¿Qué documentación se requiere normalmente para XeF?₂¿Qué es la contratación pública en Rusia?

R: Por lo general, se requiere el COA, el TDS, el SDS, la información del embalaje y la documentación de envío.