Дифторид ксенона высокой чистоты XeF₂ CAS 13709-36-9, для травления полупроводников, производства микроэлектроники и высококачественных фторхимических применений

1. Обзор продукции

Ксеноновый дифторид (XeF)₂) является важным неорганическим фторидом высокой чистоты и специальным электронным материалом, обладающим сильными окислительными свойствами и отличной способностью к фторированию.Он служит критическим материалом для гравирования в производстве полупроводников.

XeF высокой чистоты₂обладает стабильностью при комнатной температуре в твердом виде, умеренной летучестью и селективными характеристиками фторирования, что делает его подходящим для прецизионных процессов офорта на кремниевых материалах,диоксид кремния, металлов и диэлектрических слоев.

Из-за его способности подвергаться газофазным реакциям фторирования без плазменных условий, XeF₂имеет уникальные преимущества в производстве MEMS, микроэлектронной обработке и исследовательских приложениях.

Российский рынок в основном ориентирован на производителей полупроводников, компании, производящие электронные материалы, предприятия по производству MEMS, научно-исследовательские учреждения и торговцев высокочистыми специальными химикатами.

2Спецификации

Наименование продукта: ксеноновый дифторид

Название на английском языке: ксеноновый дифторид

Сокращение: XeF₂

Химическая формула: XeF₂

CAS No: 13709-36-9

Категория продукции: Неорганический фтор высокой чистоты / электронный материал

Внешний вид: белый кристаллический порошок

Чистота: поставляется в соответствии с требованиями клиента по электронному классу

Упаковка: высокочистые бутылки, специальные упаковки

Хранение: хранить в сухой, прохладной обстановке, избегать влаги

3Основные области применения

①Оформа полупроводников

XeF₂может использоваться для выборочного гравирования кремния, диоксида кремния и металлических материалов, подходящих для передовых процессов производства микроэлектроники.

②Изготовление MEMS

Использование изотопных характеристик гравирования XeF₂, может использоваться для процессов высвобождения кремния и точной конструкции в микроэлектромеханических системах.

③Исследования и разработки в области микроэлектроники

Используется в передовых процессах чипов, исследованиях электронных материалов и разработке специальных процессов фторирования.

④Специальные реакции фторирования

Как мощный фторирующий агент, используемый в исследованиях и высокотехнологичном химическом синтезе.

4Характеристики и преимущества продукта

①Высокая производительность выборочного гравирования

XeF₂позволяет точно удалять материал, уменьшая ущерб, связанный с обычными методами влажной обработки.

②Способность гравировать без плазмы

XeF в газовой фазе₂может принимать непосредственное участие в реакциях, что делает его подходящим для специализированных процессов микрофабрикации.

③Ценность высокочистых электронных материалов

XeF высокой чистоты₂отвечает строгим требованиям к контролю примесей в полупроводниковом и научно-исследовательском секторах.

5. Различия от смежных продуктов

①XeF₂против C₄F₆/С₄F₈Специальные электронные газы

XeF₂является твердым фторированным материалом для гравирования, используемым в основном для селективного сухого гравирования;₄F₆и С₄F₈Это плазменные газы для гравирования.

②XeF₂В сравнении с фторным газом (F)₂)

F₂обладает более высокой способностью к фторированию, но отличается по объему промышленного применения; XeF₂предлагает более легко контролируемые характеристики хранения и выпуска твердого вещества.

③XeF₂против обычных неорганических фторидов

XeF₂обладает уникальной молекулярной структурой и фторирующей активностью, в основном используется в высококачественной электронике и исследовательских приложениях.

6. Рассмотрение закупок на российском рынке

Клиенты обычно сосредоточены на следующем:

-Чистота продукта;

-Нечистоты металлов;

-Содержание влаги;

-Чистота упаковки;

-Консистенция от партии к партии;

-Отчеты об испытаниях электронного класса;

-Техническая документация, включающая COA, TDS, SDS.

7Преимущества продукта

-Неорганический фтор высокотехнологичного электронного класса;

-Critical Etching Material для полупроводниковых и MEMS приложений;

-Отличная эффективность селективного фторирования;

-Подходит для передовых технологий микрофабрикации;

-Продукт специального фторированного материала с высокой добавленной стоимостью.

8Упаковка и хранение

Ксеноновый дифторид обладает определенной реактивностью и упаковывается в чистые, запечатанные контейнеры.

Во время хранения хранить сухо и избегать контакта с влагой, органическими веществами и несовместимыми веществами.

9Часто задаваемые вопросы (FAQ)

Вопрос: Какие отрасли являются основными потребителями ксенонового дифлюорида?

A: Он в основном используется в производстве полупроводников, MEMS, микроэлектронной обработке, исследованиях и специальных реакциях фторирования.

В: Почему XeF₂Подходит для обработки MEMS?

A: XeF₂характеризуется изотропными характеристиками кремниевого офорта, что позволяет высокоточное освобождение структуры и микрофабрикацию.

В: В чем разница между XeF₂и С₄F₆?

A: XeF₂используется в основном для выборочного газофазного гравирования, в то время как C₄F₆в основном используется для плазменного офорта.

Вопрос: Какая документация обычно требуется для XeF₂Закупки в России?

Ответ: Обычно требуются COA, TDS, SDS, информация об упаковке и документация по доставке.