≥99.996% Trifluoruro de nitrógeno NF₃ CAS 7783-54-2, para limpieza de semiconductores, grabado por plasma y aplicaciones de gas de alta gama para electrónica

1. Resumen del producto

El trifluoruro de nitrógeno (NF₃) es un importante gas especial electrónico de alta pureza, ampliamente utilizado en la fabricación de semiconductores, paneles de visualización, células solares y producción de materiales electrónicos avanzados.

Pureza del NF₃ presenta una excelente capacidad de fluoración y alta eficiencia de reacción de plasma, lo que lo convierte en un importante gas de limpieza y gas auxiliar de grabado en la industria de semiconductores.

Según el informe de inspección del producto proporcionado por Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., la pureza de este lote de trifluoruro de nitrógeno es ≥99.996%, con resultados de prueba que muestran una pureza >99.996%, cumpliendo los requisitos.

2. Especificaciones

Nombre del producto: Trifluoruro de nitrógeno

Nombre en inglés: Nitrogen Trifluoride

Abreviatura: NF₃

Fórmula química: NF₃

Nº CAS: 7783-54-2

Categoría de producto: Gas electrónico de alta pureza

Pureza: ≥99.996%

Apariencia: Gas incoloro

Embalaje: Cilindros de alta pureza

3. Especificaciones de calidad del producto

Pureza del NF₃ : >99.996%;

N₂: 0.11 ppm (≤5 ppm);

O₂+Ar: <0.01 ppm (≤3 ppm);

Contenido de CF₄: 14.25 ppm (≤20 ppm);

CO: <0.01 ppm (≤1 ppm);

CO₂: 0.01 ppm (≤1 ppm);

N₂O: <0.01 ppm (≤1 ppm);

SF₆: <0.04 ppm (≤1 ppm);

HF: <0.05 ppm (≤1 ppm);

H₂O: 0.03 ppm (≤1 ppm).

4. Principales áreas de aplicación

① Gas de limpieza de semiconductores

Pureza del NF₃ es un gas de limpieza ampliamente utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores, utilizado para eliminar siliciuros, nitruros y otros depósitos de las cámaras de equipos CVD.

② Grabado por plasma

Pureza del NF₃ genera flúor reactivo a través de plasma, lo que permite el procesamiento de materiales de precisión.

③ Industria TFT-LCD y de pantallas

Se utiliza para limpiar equipos de deposición de película delgada en los procesos de producción de paneles de visualización.

④ Industria fotovoltaica

Se utiliza para la limpieza de equipos y procesos especiales en la fabricación de células solares.

5. Características y ventajas del producto

① Calidad de grado electrónico de alta pureza

Pureza >99.996%, cumpliendo los requisitos de la fabricación electrónica avanzada.

② Control de impurezas bajas

Los informes de prueba muestran que las impurezas clave, incluida la humedad, el HF, el SF₆y el CO, se controlan a niveles de ppm.

③ Fuente de flúor eficiente

Presenta una eficiencia de reacción de plasma favorable, adecuada para procesos de fabricación de precisión.

6. Distinciones con productos relacionados

① Pureza del NF₃ vs. SF₆

Pureza del NF₃ se utiliza principalmente para la limpieza y el grabado de semiconductores; el SF₆ se utiliza principalmente para el aislamiento de energía y ciertos procesos de grabado.

② Pureza del NF₃ vs. CF₄

Contenido de CF₄es un gas de grabado tradicional, mientras que el NF₃ ofrece mayor reactividad y eficiencia de limpieza.

③ Pureza del NF₃ vs. C₄F₆/C₄F₈

Pureza del NF₃ se utiliza principalmente para la limpieza y el suministro de fuentes de flúor; el C₄F₆ y el C₄F₈ se utilizan principalmente para el grabado de patrones finos.

7. Consideraciones de adquisición para el mercado ruso

Los clientes suelen centrarse en lo siguiente:

-Pureza del NF₃ ;

-Contenido de CF₄;

-Contenido de humedad;

-Contenido de HF;

-SF₆ y otras impurezas;

-Limpieza del cilindro;

-Documentación técnica, incluidos COA, TDS, SDS y documentos de envío.

Los resultados de las pruebas de NF₃ para este lote de Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. cumplen los requisitos técnicos especificados.

8. Ventajas de suministro del producto

-Suministro de gas electrónico de alta pureza;

-Adecuado para clientes de la cadena de la industria de semiconductores;

-Control estricto de impurezas a nivel de ppm;

-Proporciona documentación de calidad completa;

-Soporta el suministro del mercado internacional.

9. Preguntas frecuentes (FAQ)

P: ¿Cuáles son las principales aplicaciones del trifluoruro de nitrógeno?

R: Se utiliza principalmente en la limpieza de semiconductores, grabado por plasma, paneles de visualización y fabricación fotovoltaica.

P: ¿Por qué se requiere NF₃ de alta pureza?

R: Los procesos de fabricación electrónica son muy sensibles a las impurezas. El NF₃ de alta pureza mejora la estabilidad del proceso y el rendimiento del producto.

P: ¿Qué documentación se requiere normalmente para la adquisición de NF₃ ?

R: Normalmente se requieren COA, TDS, SDS, especificaciones del cilindro y documentación de envío.