Difluoreto de xenônio de alta pureza XeF2 CAS 13709-36-9, para gravação em semicondutores, fabricação de microeletrônicos e aplicações fluoroquímicas de ponta

1. Visão Geral do Produto

Difluoreto de Xenônio (XeF₂) é um importante fluoreto inorgânico de alta pureza e material eletrônico especial, apresentando fortes propriedades oxidantes e excelente capacidade de fluoração. Serve como um material de gravação crítico na fabricação de semicondutores.

XeF de alta pureza₂ oferece estabilidade à temperatura ambiente em forma sólida, volatilidade moderada e características de fluoração seletiva, tornando-o adequado para processos de gravação de precisão em materiais de silício, dióxido de silício, metais e camadas dielétricas.

Devido à sua capacidade de sofrer reações de fluoração em fase gasosa sem condições de plasma, XeF₂ possui vantagens únicas na fabricação de MEMS, processamento microeletrônico e aplicações de pesquisa.

O mercado russo tem como alvo principalmente fabricantes de semicondutores, empresas de materiais eletrônicos, empresas de fabricação de MEMS, instituições de pesquisa e comerciantes de produtos químicos especiais de alta pureza.

2. Especificações

Nome do Produto: Difluoreto de Xenônio

Nome em Inglês: Xenon Difluoride

Abreviação: XeF₂

Fórmula Química: XeF₂

Nº CAS: 13709-36-9

Categoria do Produto: Fluoreto Inorgânico de Alta Pureza / Material Eletrônico

Aparência: Pó Cristalino Branco

Pureza: Fornecido de Acordo com os Requisitos de Grau Eletrônico do Cliente

Embalagem: Garrafas de Alta Pureza, Embalagem Especializada

Armazenamento: Armazenar em Ambiente Seco e Fresco, Evitar Umidade

3. Principais Áreas de Aplicação

① Gravação de Semicondutores

XeF₂ pode ser usado para gravação seletiva de silício, dióxido de silício e materiais metálicos, adequado para processos avançados de fabricação de microeletrônica.

② Fabricação de MEMS

Aproveitando as características de gravação isotrópica do XeF₂, ele pode ser usado para processos de liberação de silício e fabricação de estruturas de precisão em sistemas microeletromecânicos.

③ Pesquisa e Desenvolvimento de Microeletrônica

Usado em processos avançados de chip, pesquisa de materiais eletrônicos e desenvolvimento de processos de fluoração especiais.

④ Reações de Fluoração Especiais

Como um poderoso agente de fluoração, usado em pesquisa e síntese química de ponta.

4. Características e Vantagens do Produto

① Alto Desempenho de Gravação Seletiva

XeF₂ permite a remoção precisa de material, reduzindo os danos associados aos métodos convencionais de processamento úmido.

② Capacidade de Gravação sem Plasma

XeF em fase gasosa₂ pode participar diretamente das reações, tornando-o adequado para processos especializados de microfabricação.

③ Valor de Material Eletrônico de Alta Pureza

XeF de alta pureza₂ atende aos rigorosos requisitos de controle de impurezas dos setores de semicondutores e pesquisa.

5. Distinções de Produtos Relacionados

① XeF₂ vs. C₄F₆/C₄F₈ Gases Eletrônicos Especiais

XeF₂ é um material de gravação fluorado sólido usado principalmente para gravação seca seletiva; C₄F₆ e C₄F₈ são gases de gravação por plasma.

② XeF₂ vs. Gás Flúor (F₂)

F₂ exibe maior capacidade de fluoração, mas difere no escopo de aplicação industrial; XeF₂ oferece características de armazenamento e liberação em estado sólido mais fáceis de controlar.

③ XeF₂ vs. Fluoretos Inorgânicos Convencionais

XeF₂ possui uma estrutura molecular e atividade de fluoração únicas, usado principalmente em eletrônicos de ponta e aplicações de pesquisa.

6. Considerações de Aquisição do Mercado Russo

Os clientes geralmente se concentram nos seguintes itens:

-Pureza do Produto;

-Impurezas Metálicas;

-Teor de Umidade;

-Limpeza da Embalagem;

-Consistência Lote a Lote;

-Relatórios de Teste de Grau Eletrônico;

-Documentação Técnica, incluindo COA, TDS, SDS.

7. Vantagens do Produto

-Fluoreto Inorgânico de Grau Eletrônico de Ponta;

-Material de Gravação Crítico para Aplicações de Semicondutores e MEMS;

-Excelente Desempenho de Fluoração Seletiva;

-Adequado para Tecnologias Avançadas de Microfabricação;

-Produto de Material Fluorados Especializado de Alto Valor Agregado.

8. Embalagem e Armazenamento

O Difluoreto de Xenônio exibe certa reatividade e deve ser embalado em recipientes limpos e selados.

Durante o armazenamento, mantenha seco e evite o contato com umidade, materiais orgânicos e substâncias incompatíveis.

9. Perguntas Frequentes (FAQ)

P: Quais indústrias são os principais usuários de Difluoreto de Xenônio?

R: É usado principalmente na fabricação de semicondutores, MEMS, processamento microeletrônico, pesquisa e reações de fluoração especiais.

P: Por que XeF₂ é adequado para processamento de MEMS?

R: XeF₂ apresenta características de gravação isotrópica de silício, permitindo a liberação de estruturas de precisão e microfabricação.

P: Qual é a diferença entre XeF₂ e C₄F₆?

R: XeF₂ é usado principalmente para gravação seletiva em fase gasosa, enquanto C₄F₆ é usado principalmente para gravação por plasma.

P: Que documentação é tipicamente necessária para a aquisição de XeF₂ na Rússia?

R: COA, TDS, SDS, informações de embalagem e documentação de envio são tipicamente necessários.