Онлайн-сервис
Онлайн-сервис
×
Контактное лицо
15366800998
Код QR WeChat
Следуйте за нами.
Качество Фторит - сырье Фабрика
Высокочистые редкие газы и фторсодержащие газы

>=99.996% Три фтористый азот NF₃ CAS 7783-54-2, для очистки полупроводников, плазменного травления и высокотехнологичных применений электронных газов

>=99.996% Три фтористый азот NF₃ CAS 7783-54-2, для очистки полупроводников, плазменного травления и высокотехнологичных применений электронных газов
Резюме продукта

1. Обзор продукции Трифлюорид азота (NF)₃) является важным высокочистым электронным специальным газом, широко используемым в производстве полупроводников, дисплейных панелей, солнечных батарей и производства передовых электронных материалов. НФ₃обладает превосходной способностью к фторированию и выс...

Технические характеристики
Характер продукции

1. Обзор продукции

Трифлюорид азота (NF)₃) является важным высокочистым электронным специальным газом, широко используемым в производстве полупроводников, дисплейных панелей, солнечных батарей и производства передовых электронных материалов.

НФ₃обладает превосходной способностью к фторированию и высокой эффективностью плазменной реакции, что делает его важным очистительным газом и вспомогательным газом для гравирования в полупроводниковой промышленности.

Согласно отчету об инспекции продукции, предоставленному компанией Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., чистота этой партии трифлюорида азота составляет≥990,996%, причем результаты испытаний показывают чистоту > 99,996%, соответствующую требованиям.

 

2Спецификации

Наименование продукта: трифлюорид азота

Название на английском языке: Trifluoride азот

Сокращение: NF₃

Химическая формула: NF₃

CAS No: 7783-54-2

Категория продукции: Электронный газ высокой чистоты

Чистота:≥99.996%

Внешний вид: Бесцветный газ

Упаковка: цилиндры высокой чистоты

 

3Спецификации качества продукции

 

НФ₃Чистота: > 99,996%;

N₂: 0,11 ppm (≤5 ppm);

О₂+Ar: < 0,01 ppm (≤3 ppm);

КФ₄: 14,25 ppm (≤20 ppm);

CO: < 0,01 ppm (≤1 ppm);

СО₂: 0,01 ppm (≤1 ppm);

N₂O: < 0,01 ppm (≤1 ppm);

SF₆: < 0,04 ppm (≤1 ppm);

HF: < 0,05 ppm (≤1 ppm);

H₂O: 0,03 ppm (≤1 ppm).

 

4Основные области применения

①Газ для очистки полупроводников

НФ₃является широко используемым очистительным газом в процессах производства полупроводников, используемым для удаления силицидов, нитридов и других отложений из камер оборудования СВД.

 

②Плазменное гравирование

НФ₃генерирует реактивный фтор через плазму, что позволяет высокоточную обработку материалов.

 

③Промышленность TFT-LCD и дисплеев

Используется для очистки тонкопленочного отложения оборудования в производственных процессах дисплеев.

 

④Фотоэлектрическая промышленность

Используется для очистки оборудования и специальных процессов в производстве солнечных элементов.

 

5Характеристики и преимущества продукта

①Высокочистое электронное качество

Чистота > 99,996%, соответствующая требованиям передового электронного производства.

 

②Контроль низкой нечистоты

Отчеты о испытаниях показывают, что основные примеси, включая влагу, HF, SF₆, и CO контролируются на уровне ppm.

 

③Эффективный источник фтора

Обладает благоприятной эффективностью плазменной реакции, подходящей для высокоточных производственных процессов.

 

6. Различия от смежных продуктов

①НФ₃против SF₆

НФ₃используется в основном для очистки и гравирования полупроводников; SF₆используется в основном для изоляции мощности и некоторых процессов гравирования.

 

②НФ₃против КФ₄

КФ₄является традиционным газом для офорта, в то время как NF₃предлагает более высокую реактивность и эффективность очистки.

 

③НФ₃против C₄F₆/С₄F₈

НФ₃используется в основном для очистки и подачи фтора;₄F₆и С₄F₈используются в основном для гравирования мелких рисунков.

 

7. Рассмотрение закупок на российском рынке

Клиенты обычно сосредоточены на следующем:

-НФ₃Чистота;

-КФ₄Содержание;

-Содержание влаги;

-Содержание HF;

-SF₆и прочие нечистоты;

-Чистота цилиндра;

-Техническая документация, включающая COA, TDS, SDS и документы о перевозке.

 

НФ₃Результаты испытаний для этой партии из Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. соответствуют установленным техническим требованиям.

 

8. Преимущества поставок продукции

-Электронное газоснабжение высокой чистоты;

-Подходит для клиентов цепочки полупроводниковой промышленности;

-Строгий контроль загрязнений на уровне ppm;

-Предоставляет полную документацию о качестве;

-Поддерживает международные рынки.

 

9Часто задаваемые вопросы (FAQ)

Вопрос: Каковы основные применения трифлюорида азота?

О: Он в основном используется в очистке полупроводников, плазменном гравировке, дисплейных панелях и фотоэлектрическом производстве.

 

Вопрос: Почему высокочистый НФ₃Нужно?

Ответ: Электронные производственные процессы очень чувствительны к примесям.₃улучшает стабильность процесса и урожайность продукции.

 

Вопрос: Какая документация обычно требуется для НФ₃Закупки?

Ответ: Обычно требуются COA, TDS, SDS, спецификации цилиндров и документация по доставке.

СОБЩЕННЫЕ ПРОДУКТЫ