>=99.996% Три фтористый азот NF₃ CAS 7783-54-2, для очистки полупроводников, плазменного травления и высокотехнологичных применений электронных газов
1. Обзор продукции Трифлюорид азота (NF)₃) является важным высокочистым электронным специальным газом, широко используемым в производстве полупроводников, дисплейных панелей, солнечных батарей и производства передовых электронных материалов. НФ₃обладает превосходной способностью к фторированию и выс...
1. Обзор продукции
Трифлюорид азота (NF)₃) является важным высокочистым электронным специальным газом, широко используемым в производстве полупроводников, дисплейных панелей, солнечных батарей и производства передовых электронных материалов.
НФ₃обладает превосходной способностью к фторированию и высокой эффективностью плазменной реакции, что делает его важным очистительным газом и вспомогательным газом для гравирования в полупроводниковой промышленности.
Согласно отчету об инспекции продукции, предоставленному компанией Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., чистота этой партии трифлюорида азота составляет≥990,996%, причем результаты испытаний показывают чистоту > 99,996%, соответствующую требованиям.
2Спецификации
Наименование продукта: трифлюорид азота
Название на английском языке: Trifluoride азот
Сокращение: NF₃
Химическая формула: NF₃
CAS No: 7783-54-2
Категория продукции: Электронный газ высокой чистоты
Чистота:≥99.996%
Внешний вид: Бесцветный газ
Упаковка: цилиндры высокой чистоты
3Спецификации качества продукции
НФ₃Чистота: > 99,996%;
N₂: 0,11 ppm (≤5 ppm);
О₂+Ar: < 0,01 ppm (≤3 ppm);
КФ₄: 14,25 ppm (≤20 ppm);
CO: < 0,01 ppm (≤1 ppm);
СО₂: 0,01 ppm (≤1 ppm);
N₂O: < 0,01 ppm (≤1 ppm);
SF₆: < 0,04 ppm (≤1 ppm);
HF: < 0,05 ppm (≤1 ppm);
H₂O: 0,03 ppm (≤1 ppm).
4Основные области применения
①Газ для очистки полупроводников
НФ₃является широко используемым очистительным газом в процессах производства полупроводников, используемым для удаления силицидов, нитридов и других отложений из камер оборудования СВД.
②Плазменное гравирование
НФ₃генерирует реактивный фтор через плазму, что позволяет высокоточную обработку материалов.
③Промышленность TFT-LCD и дисплеев
Используется для очистки тонкопленочного отложения оборудования в производственных процессах дисплеев.
④Фотоэлектрическая промышленность
Используется для очистки оборудования и специальных процессов в производстве солнечных элементов.
5Характеристики и преимущества продукта
①Высокочистое электронное качество
Чистота > 99,996%, соответствующая требованиям передового электронного производства.
②Контроль низкой нечистоты
Отчеты о испытаниях показывают, что основные примеси, включая влагу, HF, SF₆, и CO контролируются на уровне ppm.
③Эффективный источник фтора
Обладает благоприятной эффективностью плазменной реакции, подходящей для высокоточных производственных процессов.
6. Различия от смежных продуктов
①НФ₃против SF₆
НФ₃используется в основном для очистки и гравирования полупроводников; SF₆используется в основном для изоляции мощности и некоторых процессов гравирования.
②НФ₃против КФ₄
КФ₄является традиционным газом для офорта, в то время как NF₃предлагает более высокую реактивность и эффективность очистки.
③НФ₃против C₄F₆/С₄F₈
НФ₃используется в основном для очистки и подачи фтора;₄F₆и С₄F₈используются в основном для гравирования мелких рисунков.
7. Рассмотрение закупок на российском рынке
Клиенты обычно сосредоточены на следующем:
-НФ₃Чистота;
-КФ₄Содержание;
-Содержание влаги;
-Содержание HF;
-SF₆и прочие нечистоты;
-Чистота цилиндра;
-Техническая документация, включающая COA, TDS, SDS и документы о перевозке.
НФ₃Результаты испытаний для этой партии из Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. соответствуют установленным техническим требованиям.
8. Преимущества поставок продукции
-Электронное газоснабжение высокой чистоты;
-Подходит для клиентов цепочки полупроводниковой промышленности;
-Строгий контроль загрязнений на уровне ppm;
-Предоставляет полную документацию о качестве;
-Поддерживает международные рынки.
9Часто задаваемые вопросы (FAQ)
Вопрос: Каковы основные применения трифлюорида азота?
О: Он в основном используется в очистке полупроводников, плазменном гравировке, дисплейных панелях и фотоэлектрическом производстве.
Вопрос: Почему высокочистый НФ₃Нужно?
Ответ: Электронные производственные процессы очень чувствительны к примесям.₃улучшает стабильность процесса и урожайность продукции.
Вопрос: Какая документация обычно требуется для НФ₃Закупки?
Ответ: Обычно требуются COA, TDS, SDS, спецификации цилиндров и документация по доставке.