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calidad Materia prima de fluorita fábrica
Serie de fluoruro de alta pureza

≥ 99,9% de trifluoruro de fósforo PF3 CAS 7783-55-3, para el dopaje de semiconductores, gases electrónicos y aplicaciones de materiales de alto nivel de fósforo-fluoruro

≥ 99,9% de trifluoruro de fósforo PF3 CAS 7783-55-3, para el dopaje de semiconductores, gases electrónicos y aplicaciones de materiales de alto nivel de fósforo-fluoruro
Resumen del producto

1. Descripción general del producto Trifluoruro de fósforo (PF)₃) es un importante gas electrónico de alta pureza que contiene fósforo, con excelentes propiedades electrónicas y un rendimiento estable de transporte en fase gaseosa.Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores, ...

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Descripción de producto

1. Descripción general del producto

Trifluoruro de fósforo (PF)₃) es un importante gas electrónico de alta pureza que contiene fósforo, con excelentes propiedades electrónicas y un rendimiento estable de transporte en fase gaseosa.Se utiliza principalmente en la fabricación de semiconductores, materiales electrónicos, investigación y aplicaciones químicas fluoradas de alta gama.

Como fuente de fósforo y gas electrónico fluorado, PF₃Tiene un valor de aplicación significativo en la fabricación de materiales electrónicos avanzados, la investigación de procesos de semiconductores y la síntesis química especializada.

Según el informe de inspección del producto proporcionado por Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., la pureza de este lote de trifluoruro de fósforo es PF.₃Investigación 99,9%, con resultados de pruebas que muestran > 99,9%, que cumplen con el estándar de la empresa.


2Especificaciones

Nombre del producto: Trifluoruro de fósforo

Nombre en inglés: Trifluoruro de fósforo

Abreviatura: PF₃

Fórmula química: PF₃

No CAS: 7783-55-3

Categoría de producto: Gas electrónico de alta pureza / fluoruro que contiene fósforo

Purificación:≥990,9%

Embalaje: botellas

Grado de prueba: Grado de investigación

 

3Especificaciones de calidad del producto

 

El PF₃Contenido: > 99,9%

H.₂: 0,52 ppm (EspecificaciónNo más100 ppm);

¿ Qué?₂+Ar: 1,2 ppm (especificación)No más50 ppm);

No₂: 8,62 ppm (EspecificaciónNo más50 ppm);

El CH₄: 1,23 ppm (EspecificaciónNo más50 ppm);

CO: 0,35 ppm (EspecificaciónNo más50 ppm);

El CO₂: 8,65 ppm (EspecificaciónNo más100 ppm);

HF: 1,2 ppm (especificación)No más300 ppm);

HCl: 8,8 ppm (EspecificaciónNo más300 ppm).

 

 

4Áreas de aplicación principales

①Materiales electrónicos semiconductores

El PF₃puede servir como gas de material electrónico que contiene fósforo para la investigación de procesos de semiconductores, la preparación de materiales y aplicaciones electrónicas especiales.

 

②Procesos de dopaje de fósforo y de película delgada

El fósforo es un importante elemento dopaje en los materiales de semiconductores.₃puede servir como material fuente de fósforo especial para el desarrollo de procesos relacionados.

 

③Síntesis química de alta pureza

Se utiliza en la síntesis de compuestos de fósforo-fluoro y en aplicaciones de investigación.

 

④Investigación y desarrollo de gases electrónicos

Se utiliza en la investigación de materiales electrónicos avanzados y aplicaciones de gases especiales.

 

5Características y ventajas del producto

①Calidad electrónica de alta pureza

El PF₃La pureza alcanza más del 99,9%, cumpliendo con los requisitos de investigación y aplicaciones industriales de gama alta.

 

②Control estable de las impurezas

Las impurezas clave, como el hidrógeno, el oxígeno + el argón, el nitrógeno y el monóxido de carbono, se controlan a niveles de ppm.

 

③Aplicaciones de alto valor añadido

Principalmente dirigidos a los semiconductores, materiales electrónicos y sectores químicos especializados.

 

6. Distinciones con respecto a productos afines

①El PF₃frente al pH₃

PH₃es un gas de doping de fósforo semiconductor comúnmente utilizado, mientras que el PF₃es un material fuente de fósforo fluorado con diferentes direcciones de aplicación.

 

②El PF₃frente a la NF₃

NF y NF₃se utiliza principalmente para la limpieza y el grabado de semiconductores, mientras que PF₃proporciona principalmente valor como fuente de fósforo y material electrónico.

 

③El PF₃contra el BF₃

BF₃se utiliza principalmente para el dopaje de boro y la síntesis química, mientras que el PF₃se utiliza principalmente para aplicaciones relacionadas con el fósforo.

 

7Consideraciones relativas a las compras en el mercado ruso

Los clientes suelen centrarse en lo siguiente:

-El PF₃Purificación;

-contenido de humedad y HF;

-Impuridades de oxígeno y nitrógeno;

-La limpieza de los cilindros;

-Consistencia de lote a lote;

-Documentación técnica que incluye el COA, el TDS, el SDS y los documentos de envío.

Los resultados de las pruebas para este lote de Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. cumplen con el estándar de la empresa.

 

8Ventajas en el suministro de productos

-El suministro de trifluoruro de fósforo de alta pureza;

-Envases en cilindros adecuados para el transporte de gases especiales;

-Proporciona una documentación completa de la calidad;

-Sirve a los clientes de materiales electrónicos e investigación.

 

9. Preguntas frecuentes (FAQ)

P: ¿Cuáles son las principales áreas de aplicación del trifluoruro de fósforo?

R: Se utiliza principalmente en materiales electrónicos, investigación relacionada con semiconductores, compuestos de fósforo y flúor y aplicaciones de investigación.

 

P: ¿Cuál es la diferencia entre PF₃y pH₃?

A: PH₃se utiliza principalmente para el dopaje de fósforo en semiconductores, mientras que el PF₃es un gas fuente de fósforo fluorado con diferentes direcciones de aplicación.

 

P: ¿Qué documentación se requiere normalmente para el PF?₃¿Qué es la contratación?

R: Por lo general, se requieren COA, TDS, SDS, especificaciones del cilindro y documentación de envío.

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