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qualidade Matéria-prima de fluorita fábrica
Série de fluoreto de alta pureza

≥ 99,9% Trifluoreto de fósforo PF3 CAS 7783-55-3, para dopagem em semicondutores, gases eletrónicos e aplicações em materiais de fósforo-fluoreto de ponta

≥ 99,9% Trifluoreto de fósforo PF3 CAS 7783-55-3, para dopagem em semicondutores, gases eletrónicos e aplicações em materiais de fósforo-fluoreto de ponta
Resumo do Produto

1. Visão Geral do Produto Trifluoreto de Fósforo (PF₃) é um importante gás eletrônico de alta pureza contendo fósforo, com excelentes propriedades eletrônicas e desempenho estável de transporte em fase gasosa. É usado principalmente na fabricação de semicondutores, materiais eletrônicos, pesquisa e ...

Especificações
Descrição do produto

1. Visão Geral do Produto

Trifluoreto de Fósforo (PF₃) é um importante gás eletrônico de alta pureza contendo fósforo, com excelentes propriedades eletrônicas e desempenho estável de transporte em fase gasosa. É usado principalmente na fabricação de semicondutores, materiais eletrônicos, pesquisa e aplicações de produtos químicos fluorados de ponta.

Como fonte de fósforo e gás eletrônico fluorado, o PF₃tem valor de aplicação significativo na fabricação avançada de materiais eletrônicos, pesquisa de processos de semicondutores e síntese de produtos químicos especiais.

De acordo com o relatório de inspeção do produto fornecido pela Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., a pureza deste lote de Trifluoreto de Fósforo é PF₃Pesquisa 99,9%, com resultados de teste mostrando >99,9%, atendendo ao padrão da empresa.


2. Especificações

Nome do Produto: Trifluoreto de Fósforo

Nome em Inglês: Phosphorus Trifluoride

Abreviação: PF₃

Fórmula Química: PF₃

Nº CAS: 7783-55-3

Categoria do Produto: Gás Eletrônico de Alta Pureza / Fluoreto Contendo Fósforo

Pureza: ≥99,9%

Embalagem: Cilindros

Grau de Teste: Grau de Pesquisa

 

3. Especificações de Qualidade do Produto

 

Pureza do PF₃Conteúdo: >99,9%;

H₂: 0,52 ppm (Especificação ≤100 ppm);

O₂+Ar: 1,2 ppm (Especificação ≤50 ppm);

N₂: 8,62 ppm (Especificação ≤50 ppm);

CH₄: 1,23 ppm (Especificação ≤50 ppm);

CO: 0,35 ppm (Especificação ≤50 ppm);

CO₂: 8,65 ppm (Especificação ≤100 ppm);

HF: 1,2 ppm (Especificação ≤300 ppm);

HCl: 8,8 ppm (Especificação ≤300 ppm).

 

 

4. Principais Áreas de Aplicação

① Materiais Eletrônicos Semicondutores

Pureza do PF₃pode servir como um gás de material eletrônico contendo fósforo para pesquisa de processos de semicondutores, preparação de materiais e aplicações eletrônicas especiais.

 

② Processos de Dopagem de Fósforo e Filmes Finos

O fósforo é um elemento dopante importante em materiais semicondutores. PF₃pode servir como um material fonte de fósforo especial para o desenvolvimento de processos relacionados.

 

③ Síntese Química de Alta Pureza

Usado na síntese de compostos de fósforo-flúor e aplicações de pesquisa.

 

④ Pesquisa e Desenvolvimento de Gases Eletrônicos

Usado em materiais eletrônicos avançados e pesquisa de aplicações de gases especiais.

 

5. Características e Vantagens do Produto

① Qualidade de Grau Eletrônico de Alta Pureza

Pureza do PF₃atinge acima de 99,9%, atendendo aos requisitos de pesquisa e aplicações industriais de ponta.

 

② Controle Estável de Impurezas

Impurezas chave, incluindo hidrogênio, oxigênio+argônio, nitrogênio e monóxido de carbono, são controladas em níveis de ppm.

 

③ Aplicações de Alto Valor Agregado

Visando principalmente os setores de semicondutores, materiais eletrônicos e produtos químicos especiais.

 

6. Distinções de Produtos Relacionados

① Pureza do PF₃vs. PH₃

PH₃é um gás de dopagem de fósforo semicondutor comumente usado, enquanto PF₃é um material fonte de fósforo fluorado com diferentes direções de aplicação.

 

② Pureza do PF₃vs. NF₃

NF₃é usado principalmente para limpeza e gravação de semicondutores, enquanto PF₃fornece valor principalmente como fonte de fósforo e material eletrônico.

 

③ Pureza do PF₃vs. BF₃

BF₃é usado principalmente para dopagem de boro e síntese química, enquanto PF₃é usado principalmente para aplicações relacionadas ao fósforo.

 

7. Considerações de Compra para o Mercado Russo

Os clientes geralmente se concentram no seguinte:

-Pureza do PF₃;

-Teor de Umidade e HF;

-Impurezas de Oxigênio e Nitrogênio;

-Limpeza do Cilindro;

-Consistência Lote a Lote;

-Documentação Técnica, incluindo COA, TDS, SDS e Documentos de Embarque.

Os resultados dos testes para este lote da Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. atendem ao padrão da empresa.

 

8. Vantagens de Fornecimento do Produto

-Fornecimento de Trifluoreto de Fósforo de Alta Pureza;

-Embalagem em Cilindro Adequada para Transporte de Gás Especial;

-Fornece Documentação Completa de Qualidade;

-Atende Clientes de Materiais Eletrônicos e de Pesquisa.

 

9. Perguntas Frequentes (FAQ)

P: Quais são as principais áreas de aplicação do Trifluoreto de Fósforo?

R: É usado principalmente em materiais eletrônicos, pesquisa relacionada a semicondutores, compostos de fósforo-flúor e aplicações de pesquisa.

 

P: Qual é a diferença entre PF₃e PH₃?

R: PH₃é usado principalmente para dopagem de fósforo em semicondutores, enquanto PF₃é um gás fonte de fósforo fluorado com diferentes direções de aplicação.

 

P: Que documentação é tipicamente necessária para a aquisição de PF₃?

R: COA, TDS, SDS, especificações do cilindro e documentação de embarque são tipicamente necessários.

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