≥ 99,9% Trifluoreto de fósforo PF3 CAS 7783-55-3, para dopagem em semicondutores, gases eletrónicos e aplicações em materiais de fósforo-fluoreto de ponta
1. Visão Geral do Produto Trifluoreto de Fósforo (PF₃) é um importante gás eletrônico de alta pureza contendo fósforo, com excelentes propriedades eletrônicas e desempenho estável de transporte em fase gasosa. É usado principalmente na fabricação de semicondutores, materiais eletrônicos, pesquisa e ...
1. Visão Geral do Produto
Trifluoreto de Fósforo (PF₃) é um importante gás eletrônico de alta pureza contendo fósforo, com excelentes propriedades eletrônicas e desempenho estável de transporte em fase gasosa. É usado principalmente na fabricação de semicondutores, materiais eletrônicos, pesquisa e aplicações de produtos químicos fluorados de ponta.
Como fonte de fósforo e gás eletrônico fluorado, o PF₃tem valor de aplicação significativo na fabricação avançada de materiais eletrônicos, pesquisa de processos de semicondutores e síntese de produtos químicos especiais.
De acordo com o relatório de inspeção do produto fornecido pela Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd., a pureza deste lote de Trifluoreto de Fósforo é PF₃Pesquisa 99,9%, com resultados de teste mostrando >99,9%, atendendo ao padrão da empresa.
2. Especificações
Nome do Produto: Trifluoreto de Fósforo
Nome em Inglês: Phosphorus Trifluoride
Abreviação: PF₃
Fórmula Química: PF₃
Nº CAS: 7783-55-3
Categoria do Produto: Gás Eletrônico de Alta Pureza / Fluoreto Contendo Fósforo
Pureza: ≥99,9%
Embalagem: Cilindros
Grau de Teste: Grau de Pesquisa
3. Especificações de Qualidade do Produto
Pureza do PF₃Conteúdo: >99,9%;
H₂: 0,52 ppm (Especificação ≤100 ppm);
O₂+Ar: 1,2 ppm (Especificação ≤50 ppm);
N₂: 8,62 ppm (Especificação ≤50 ppm);
CH₄: 1,23 ppm (Especificação ≤50 ppm);
CO: 0,35 ppm (Especificação ≤50 ppm);
CO₂: 8,65 ppm (Especificação ≤100 ppm);
HF: 1,2 ppm (Especificação ≤300 ppm);
HCl: 8,8 ppm (Especificação ≤300 ppm).
4. Principais Áreas de Aplicação
① Materiais Eletrônicos Semicondutores
Pureza do PF₃pode servir como um gás de material eletrônico contendo fósforo para pesquisa de processos de semicondutores, preparação de materiais e aplicações eletrônicas especiais.
② Processos de Dopagem de Fósforo e Filmes Finos
O fósforo é um elemento dopante importante em materiais semicondutores. PF₃pode servir como um material fonte de fósforo especial para o desenvolvimento de processos relacionados.
③ Síntese Química de Alta Pureza
Usado na síntese de compostos de fósforo-flúor e aplicações de pesquisa.
④ Pesquisa e Desenvolvimento de Gases Eletrônicos
Usado em materiais eletrônicos avançados e pesquisa de aplicações de gases especiais.
5. Características e Vantagens do Produto
① Qualidade de Grau Eletrônico de Alta Pureza
Pureza do PF₃atinge acima de 99,9%, atendendo aos requisitos de pesquisa e aplicações industriais de ponta.
② Controle Estável de Impurezas
Impurezas chave, incluindo hidrogênio, oxigênio+argônio, nitrogênio e monóxido de carbono, são controladas em níveis de ppm.
③ Aplicações de Alto Valor Agregado
Visando principalmente os setores de semicondutores, materiais eletrônicos e produtos químicos especiais.
6. Distinções de Produtos Relacionados
① Pureza do PF₃vs. PH₃
PH₃é um gás de dopagem de fósforo semicondutor comumente usado, enquanto PF₃é um material fonte de fósforo fluorado com diferentes direções de aplicação.
② Pureza do PF₃vs. NF₃
NF₃é usado principalmente para limpeza e gravação de semicondutores, enquanto PF₃fornece valor principalmente como fonte de fósforo e material eletrônico.
③ Pureza do PF₃vs. BF₃
BF₃é usado principalmente para dopagem de boro e síntese química, enquanto PF₃é usado principalmente para aplicações relacionadas ao fósforo.
7. Considerações de Compra para o Mercado Russo
Os clientes geralmente se concentram no seguinte:
-Pureza do PF₃;
-Teor de Umidade e HF;
-Impurezas de Oxigênio e Nitrogênio;
-Limpeza do Cilindro;
-Consistência Lote a Lote;
-Documentação Técnica, incluindo COA, TDS, SDS e Documentos de Embarque.
Os resultados dos testes para este lote da Changzhou Jiayuan Chemical Co., Ltd. atendem ao padrão da empresa.
8. Vantagens de Fornecimento do Produto
-Fornecimento de Trifluoreto de Fósforo de Alta Pureza;
-Embalagem em Cilindro Adequada para Transporte de Gás Especial;
-Fornece Documentação Completa de Qualidade;
-Atende Clientes de Materiais Eletrônicos e de Pesquisa.
9. Perguntas Frequentes (FAQ)
P: Quais são as principais áreas de aplicação do Trifluoreto de Fósforo?
R: É usado principalmente em materiais eletrônicos, pesquisa relacionada a semicondutores, compostos de fósforo-flúor e aplicações de pesquisa.
P: Qual é a diferença entre PF₃e PH₃?
R: PH₃é usado principalmente para dopagem de fósforo em semicondutores, enquanto PF₃é um gás fonte de fósforo fluorado com diferentes direções de aplicação.
P: Que documentação é tipicamente necessária para a aquisição de PF₃?
R: COA, TDS, SDS, especificações do cilindro e documentação de embarque são tipicamente necessários.